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    四氟化碳|CF4

    产品名称:四氟化碳|CF4
    其他名称:四氟甲烷
    分子式:CF4
    UN NO:UN 1956
    CAS NO:75-73-0
    产品纯度:99.999%
    包装说明:40L钢瓶30kg/瓶
    订购热线:4006-377-517

           

    四氟化碳|CF4

    0

    名称  四氟化碳
     其他名称 四氟甲烷、R14、tetrafluoromethane、carbon tetrafluoride
     分子式 CF4
     UN No UN1956
     CAS No 75-73-0
     产品纯度 99.99~99.999% 
     包装说明 47L DOT钢瓶,钢瓶尺寸23 × 130cm,316L SS材质阀门,阀门型号CGA660;40L高压无缝钢瓶,净重30kg/瓶,瓶头阀是铜质阀门是QF-2,出口螺纹是G5/8
    四氟化碳检测报告

    产品说明:
     四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体,充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。 
    四氟化碳用途
    四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。
    1:在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、
    泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
    2:可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-H2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。
    3:由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
    4.:四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。

    注意事项:
     四氟化碳是不燃性压缩气体。储存于阴凉、通风仓间内。仓内温度不宜超过60℃。远离火种、热源。防止阳光直射。应与易燃或可燃物分开存放。验收时要注意品名,注意验瓶日期,先进仓的先发用。搬运四氟化碳时轻装轻卸,防止钢瓶及附件破损。泄漏时,应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风,加速扩散。如有可能,即时使用。漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。
    四氟化碳的物理化学性质

    分子量:88.005
    熔点(101.325kPa):    -186.8℃
    沸点(101.325kPa):    -128.0℃
    液体密度(-127.94℃,101.325kPa):1603kg/m3
    气体密度(0℃,101.325kPa):    3.946 kg/m3
    相对密度(气体,0℃,101.325kPa):  3.05
    气液容积比(15℃,100kPa):436 L/L
    比容(21.1℃,101.325kPa):0.2747m3/kg
    临界温度:    -45.6℃
    临界压力:    3739kPa
    临界密度:    629kg/m3
    压缩系数:

    温度℃
    压缩系数
    100kPa
    1000kPa
    5000kPa
    10000kPa
    1 5
    0.9981
    0.9763
    0.7832
    0.6058
    50
    0.9988
    0.9866
    0.8717
    0.7637

     
    熔化热(-186.8℃):    7.609 kJ/kg
    气化热(-127.94℃,101.325kPa):  135.65 kJ/kg
    比热容(气体,25℃,101.325kPa):Cp=696 J/(kg·K)
                                    Cv=602J/(kg·K)
    比热比(气体,25℃,101.325kPa):Cp/Cv=1.157
    蒸气压(-180.65 C):0.20 kPa
                 (-120℃):    165 kPa
                  (-50℃):    3220 kPa
    粘度(101.325kPa,0℃,气体):0.0161 mPa·S
                    (-60.0℃,液体):0.170 mPa·S
    表面张力(-80.0℃):    6.4 mN/m
    导热系数(101.325kPa,0℃):0.01503 w/(m·K)
                (液体,-60.0℃):0.07196 w/(m·K)
    折射率(-73℃):    1.151
    四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体。空气中不燃烧,是比较稳定的无毒物质。但是在高温时,或与可燃气体一同燃烧时,分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能与二氧化碳形成羰基氟。微溶于水,在25℃,101.325kPa时,水中溶解度为0.0015%(重量)。有轻微的水解作用。
    四氟化碳制备方法:
    1.由碳与氟反应,或一氧化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟二氯甲烷与氟化氢反 应,或四氯化碳与氟化银反应,或四氯化碳与氟化氢反应,都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、 碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,最后经精馏而得成品。
     
      2.预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔 合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应,反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,使反应继续进行,生成气 体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化后,将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅,随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到最终产品。
     
      3.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和 反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进 行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。

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