日本半导体制程电子气体及中国发展情况－2008年7月

从日本半导体制程洁净及蚀刻用气体之现况反观国内之发展 NF3在执行CVD腔体洁净(Chamber Cleaning)扮演重要的角色，清洁效率极高，近年来受到「京都议定书」对全氟化物PFC（Perfluorinated Compound）的严格要求，原因是认为PFC造成地球暖化机率很高，因此，全球半导体厂会逐年降低对NF3的使用量，同时开发新的替代方案，市场方面Air Products拥有40%的市场，销售约1500吨的用量，其次是关东电化工业及三井化学各占有20%。 NH3除了应用在半导体离子蚀刻(ionic etching)的制程之外，目前应用在LED以及液晶面板的ARRAY制程端的比例逐年上拉，也因此近年来，NH3需求量明显增加，供货商的供货比例形成均分的状况，昭和电工略胜一筹，拥有32%，其余都在20%左右。 N2O俗称笑气，医疗用途是麻醉用，使用量已渐渐减少，反而是应用在半导体DRAM的需求增加，N2O是CVD制程所需使用的材料，可制作绝缘膜，广泛用于半导体及液晶LCD产业，但是受到温室效应的影响，全球半导体业仍需努力找寻替代方案，供货商与NH3接近，其中MTG(Matheson Tri Gas)是大阳日酸投资的子公司。 CF4广泛用在半导体的干蚀刻制程，少部分用在半导体及液晶制程中腔体的清洁，HBr则是应用在Silicon的蚀刻，HCl用途既可用在半导体干蚀刻，也可用来作Silicon的蚀刻用气体，日本国内CF4的供货商以昭和电工、关东电化工业以及大金工业均分天下，韩国则有尉山化学投入，日本国内唯一可制造>99.999%HCl气体是鹤见曹达，昭和电工的量则是鹤见曹达由OEM生产。 SF6具有良好的绝缘特性，属无臭气体而且安定性高，是一种毒性较低的气体，主要应用在半导体及液晶面板的干蚀刻制程，其次是用在CVD腔体清洁用，但由于地球暖化的因素的考虑，业者仍是积极寻找替代性方法，供应链同样是由昭和电工、关东电化工业主导，高达90%以上的市占率。C2F6用途在CVD腔体的洁净，市场由昭和电工、关东电化工业以及大金工业均分天下，外销则以昭和电工为主。制造技术方面，宇部兴产的宇部工厂可从原料到精制BCl3，产值每年有200吨，昭和电工则是将2N(99%)的制品再加以精练到高纯度。 Cl2以ADEKA、昭和电工以及东亚合成三家供应，ADEKA川崎工场2007年3月年产能从300吨提升到1000吨，昭和电工也跟进，同样在2007年年产能上拉到1000吨，可说是竞争激烈。